光学系統図 投影式露光装置のイメージ図
露光装置はその露光方式によって、下記の図に示したようにコンタクト・プロキシミティ露光装置、一括投影露光装置および分割投影露光装置に分ける事ができます。
露光装置の分類
コンタクト・プロキシミティ露光装置は半導体製造プロセスを除いた微細加工プロセスに最も多く用いられている露光装置です。使用される理由は初期導入にかかるコストと維持メンテナンス性の良さにあります。しかし、プロキシミティ露光装置はマスク欠損、ワーク欠損の発生が予測されます。特に段差があるワークの段差底面に露光するような場合には解像力も含め問題が顕在化します。
投影式露光装置は、マスクとワークが接触しない投影露光方式です。マスクへのダメージが少なくで、マスクが半永久的に使えます。そして、レジスト付着などによるマスクへのダメージがなく、ランニングコストが低減されます。また、配線欠陥を防止することで、歩留まり向上にもつながります。
投影式露光装置は、基板収縮対応、ビルドアップ、多層パターンの高精度な重ね合わせを実現できます。シリコンウェハー、ガラス基板、セラミック基板、ロール基板、プリント基板など、さまざまな基板に対応する大面積投影露光を行います。
投影露光装置の光学原理図
また一括投影露光装置を選択した場合、コンタクト・プロキシミティ露光装置の問題は回避されるものの、投影レンズの歪みが総合重ね合せ精度を低下させます。この場合の実用的な総合重ね合せ精度はおおよそ±2μm程度です。 一方で分割投影露光装置の場合、解像力、重ね合せ精度が問題となることは少ないで；また、装置価格が高く、焦点深度が浅くなってしまうというデメリットがあります。
弊社独自の投影レンズは、一括露光領域が広く、高解像度及び極小Distortionを特徴としています。これから多様なニーズに最適化した光学設計で、深い焦点深度を維持しながら、さまざまな露光面積、解像度の投影レンズを開発し、シリーズ化していきます。
露光パターン写真
コンタクト式露光装置やProximity露光装置に当社が開発した投影レンズを加えることで、投影式露光装置へのVersionUpができます。
投影露光装置用の投影レンズを始め、照明系レンズ、およびアライメントとオートフォーカスの光学製品が当社の得意製品であり、お客様の特注品への対応が可能です。
お問合せ: penrodliu@gmail.com
